Máy quang phổ phát xạ quang học Plasma cảm ứng cao tần 1500/2000/3000 – ICP-OES

Máy quang phổ phát xạ quang học Plasma cảm ứng cao tần Plasma 1500/2000/3000 – ICP-OES

Mô tả:

Công ty TNHH Đạt Hiển xin giới thiệu sản phẩm 

Công nghệ ICP-OES của hãng NCS sử dụng nguồn plasma cảm ứng cao tần với bộ phát RF thể rắn hiện đại, cho plasma ổn định, mạnh và bền trong suốt quá trình phân tích. Hệ quang học độ phân giải cao cho phép thu nhận đồng thời nhiều vạch phổ, giúp phân tích chính xác nhiều nguyên tố trong một lần đo và hạn chế tối đa hiện tượng chồng phổ. Hệ thống đưa mẫu được tối ưu với nebulizer và buồng phun sương hiệu suất cao, phù hợp cho nhiều loại mẫu lỏng có nền phức tạp. Kết hợp với phần mềm điều khiển thông minh, tự động hiệu chuẩn và xử lý dữ liệu nhanh, công nghệ ICP-OES của NCS đáp ứng tốt các yêu cầu phân tích trong môi trường, luyện kim, thực phẩm, vật liệu và kiểm soát chất lượng công nghiệp, với chi phí đầu tư và vận hành tối ưu.

Đăc điểm nổi bật:

Giới hạn phát hiện từ ppm-ppb

Tốc đo nhanh khoảng 70 vạch phổ mỗi phút

Đầu do CCD 

Nguồn điện 220V AC