Máy Phân Tích Thành Phần Kim Loại Rắn Bằng Quang Phổ Phát Xạ Tia Lửa (Spark OES)
Mô tả:
Công ty TNHH Đạt Hiển là đại lý chính thức của hãng EXPEC TECHNOLOGY tại Việt Nam.
Công nghệ Spark OES của EXPEC Technology ứng dụng hồ quang điện trong môi trường argon tinh khiết để tạo plasma và phân tích phổ phát xạ, giúp xác định nhanh và chính xác thành phần nguyên tố kim loại. EXPEC 4820 và 4850 là dòng máy phân tích kim loại cao cấp ứng dụng công nghệ quang phổ phát xạ nguyên tử (OES) toàn dải, kết hợp cảm biến CMOS chuẩn nghiên cứu và nguồn xung kỹ thuật số hiện đại. Thiết bị hoạt động trong môi trường argon tinh khiết, tạo plasma từ mẫu kim loại và phân tích phổ phát xạ để xác định chính xác thành phần và hàm lượng nguyên tố.
Với độ chính xác cao, độ ổn định vượt trội và vận hành đơn giản, EXPEC 4820/4850 đáp ứng hiệu quả các yêu cầu phân tích trong luyện kim, đúc chính xác, hàng không vũ trụ, sản xuất công nghệ cao và đào tạo nghiên cứu. Hỗ trợ phân tích hơn 10 nguyên tố nền phổ biến như Fe, Al, Cu, Zn, Ni, Ti, Mg, Pb, Sn…
- Model: EXPEC 4820N, EXPEC 4820S / EXPEC 4850F, EXPEC 4850N, EXPEC 4850S
![]() |
![]() |
|
EXPEC 4820 |
EXPEC 4850 |
Ứng dụng:
Thiết bị phân tích kim loại EXPEC ứng dụng công nghệ phát xạ hồ quang (Spark OES), đáp ứng hiệu quả các yêu cầu kiểm soát chất lượng và phân tích thành phần hóa học trong sản xuất và nghiên cứu. Thiết bị được sử dụng rộng rãi trong nhiều lĩnh vực như:
- Luyện kim và đúc khuôn kim loại, nhựa thành sản phẩm công nghiệp.
- Thiết kế và chế tạo máy bay, thiết bị hàng không vũ trụ.
- Sản xuất linh kiện chính xác trong công nghiệp chế tạo.
- Chế tạo và lắp ráp ô tô, xe điện thông minh.
- Giao thông đường sắt, tàu hỏa và các phương tiện vận tải nặng.
- Ứng dụng trong nghiên cứu vật liệu và phân tích khoa học tại các viện, trường đại học.
Model tương đương:
EXPEC 4820:
- SPECTRO: SpectroLAB S, SpectroMAXx
- BRUKER: Q4 TASMAN Series
- THERMO FISHER: ARL iSpark 8820
EXPEC 4850:
- SPECTRO: SpectroLAB M, SpectroMAXx LMX
- BRUKER: Q8 MAGELLAN
- THERMO FISHER: ARL iSpark 8860
Thông số kĩ thuật:
| Hạng mục | EXPEC 4820 | EXPEC 4850 |
| Hệ quang học | Hệ quang học Paschen-Runge sử dụng nhiều cảm biến CMOS hiệu suất cao Buồng quang đơn với hệ thống tự làm sạch bằng argon Dải bước sóng: 174-520 nm |
Buồng quang kép với hệ thống xả khí argon Dải bước sóng: 140-680 nm |
| Nguồn kích thích | Nguồn xung kỹ thuật số lập trình Công nghệ đánh lửa năng lượng cao, xung đánh lửa: 1-14kV Tần số phóng tối đa: 1000HzDòng xả tối đa: 400A Điện áp kích thích hồ quang: 20-230V Xung kích thích hồ quang: 20–60V |
Giống EXPEC 4820 |
| Nguồn điện và điều kiện môi trường | Điện áp: (220 ± 20)V AC, (50 ± 1) Hz, nguồn đơn với tiếp đất bảo vệ Tần số kích thích tối đa: 400W, công suất chờ trung bình: 50W Nhiệt độ hoạt động: 10-30°C Nhiệt độ bảo quản: 0-45°CĐộ ẩm hoạt động: 20-80% RH |
Giống EXPEC 4820 |
| Buồng đánh mẫu | Thiết kế mở, có thể lắp thêm các phụ kiện để đáp ứng nhiều loại mẫu nhỏ Thiết kế xả khí tối ưu, tiết kiệm argon và tăng độ ổn định Dễ vệ sinh, có nhắc nhở chu kỳ bảo dưỡng Đường kính lỗ đánh mẫu: 13mm (tùy chọn 6mm) |
Giống EXPEC 4820 |
| Khí Argon | Độ tinh khiết: 99.999%, Áp suất: 0.5MPa Lưu lượng khi vận hành: khoảng 3.5L/phút Lưu lượng duy trì/chờ: khoảng 0.1L/phút |
Lưu lượng vận hành tương tự Lưu lượng duy trì/chờ cao hơn: khoảng 0.2L/phút |
| Kích thước và trọng lượng | Dài: 818mm, Rộng: 590mm, Cao: 396mm Trọng lượng: khoảng 70kg |
Dài: 623mm, Rộng: 735mm, Cao: 443mm Trọng lượng: khoảng 80kg |
| Chứng nhận EMC | IEC 61000-4-2, 61000-4-4, 61000-4-5 | Giống EXPEC 4820 |
| Model EXPEC F | Không có | Buồng quang kép, phân tích nguyên tố N và UV tốt, đáp ứng các yêu cầu phân tích cao cấp với nhiều nền như Fe, Al, Cu, Zn, Ni, Ti, Mg, Co… |
| Model EXPEC N | Phân tích được hầu hết các nền, bao gồm Fe, Al, Cu, Ni, Zn | Buồng quang đơn, phân tích các nền: Al, Cu, Zn, Mg… |
| Model EXPEC S | Phù hợp cho phân tích kim loại không chứa sắt như Al, Cu, Zn, Mg | Buồng quang kép, phân tích UV tốt, ứng dụng với các nền Fe, Al, Cu, Zn, Ni, Ti, Mg… |



Đánh giá
Chưa có đánh giá nào.