Hỗ trợ khách hàng
HOTLINE 1 0909 93 08 82
HOTLINE 2 0345 81 94 96
HOTLINE 3
0938 47 09 88
THIẾT BỊ PHÂN TÍCH KHÍ OXY,NITƠ VÀ HYDRO TRONG KIM LOẠI ONH-3500/5000
Thiết bị phân tích khí Oxy,Nitơ và Hydro trong kim loại
Mô tả:
NCS ONH-3500/5000 là thiết bị phân tích hàm lượng Oxy (O), Nitơ (N) và Hydro (H) trong kim loại và vật liệu vô cơ bằng phương pháp nóng chảy trong môi trường khí trơ (Inert Gas Fusion). Mẫu được nung chảy ở nhiệt độ rất cao trong lò graphit, các nguyên tố khí được giải phóng và đo bằng hệ thống cảm biến chuyên dụng, cho phép xác định nồng độ ở mức ppm đến phần trăm khối lượng với độ chính xác và lặp lại cao.
Thiết bị hỗ trợ phân tích nhiều loại vật liệu như thép, hợp kim niken, titan, nhôm, bột kim loại… và được ứng dụng rộng rãi trong QA/QC luyện kim, nghiên cứu vật liệu, kiểm định chất lượng và phòng thí nghiệm tiêu chuẩn. Với thiết kế ổn định, phần mềm thân thiện và khả năng phân tích nhanh, NCS ONH-3500 là giải pháp tin cậy để kiểm soát tạp chất khí ảnh hưởng trực tiếp đến cơ tính và độ bền vật liệu.
Bảng so sánh ONH-3500 và ONH-5000
| Tiêu chí kỹ thuật | NCS ONH-3500 | NCS ONH-5000 |
|---|---|---|
| Kích thước máy chính (WxDxH) | 850 × 700 × 750 mm | 900 × 750 × 800 mm |
| Trọng lượng | 150 kg | 180 kg |
| Nguồn điện | AC 220 V / 50–60 Hz | AC 220 V / 50–60 Hz |
| Công suất tiêu thụ | ~3.5 kW | 4.5 kW |
| Nguồn khí bảo vệ | Argon tinh khiết cao | Argon tinh khiết cao |
| Nhiệt độ lò phân tích | Lên đến > 3000°C | Lên đến > 3000°C |
| Kiểu đầu dò | IR (O/H) + TCD (N) | IR (O/H) + TCD (đa kênh cải tiến) |
| Tự động hóa | Chuẩn | Cao hơn |
| Màn hình / phần mềm | PC – Windows | PC- Windows |
Sản phẩm tương tự
Máy quang phổ phát xạ quang học Plasma cảm ứng cao tần Plasma 1500/2000/3000 – ICP-OES Mô tả: Công ty TNHH Đạt Hiển xin giới thiệu sản phẩm Công nghệ ICP-OES của hãng NCS sử dụng nguồn plasma cảm ứng cao tần với bộ phát RF thể rắn hiện đại, cho plasma ổn định, mạnh ...
Chuyên dùng phân tích kim loại vết và siêu vết ở mức ppb–ppt trong mẫu phù hợp cho các phòng thí nghiệm môi trường, thực phẩm, dược phẩm, hóa chất và vật liệu.
Thiết bị phân tích Carbon và Lưu Huỳnh nung ống đứng CS4600 Mô tả: Công ty TNHH Đạt Hiển xin giới thiệu sản phẩm. Thiết bị phân tích Carbon và Lưu Huỳnh CS4600 của hãng NCS sử dụng công nghệ nung ống đứng (Vertical Tube Furnace) kết hợp với hệ thống phát hiện hồng ngoại ...
MÁY QUANG PHỔ PHÁT XẠ TIA LỬA PHÂN TÍCH KIM LOẠI RẮN (Spark CCD 6500/7000) Mô tả: Spark OES (Spark Optical Emission Spectroscopy) là kỹ thuật phân tích thành phần hóa học của kim loại rắn bằng cách dùng tia lửa điện (spark discharge) để kích thích nguyên tử trên bề mặt mẫu phát ra ...
SparkCMOS 8000-quang phổ phát xạ tia lửa -chuyên dụng cho phân tích định lượng nguyên tố trong kim loại rắn như thép, gang, nhôm, đồng, hợp kim niken, titan,..
Thiết bị phân tích hàm lượng Carbon và Lưu Huỳnh cực thấp CS5500T Mô tả: Công ty TNHH Đạt Hiển xin phép giới thiệu sản phẩm. CS5500T là thiết bị chuyên dụng của hãng NCS dùng để phân tích hàm lượng Carbon và Lưu Huỳnh ở mức cực thấp (ultra-low C/S), phù hợp cho các ...
Máy quang khổ phối plasma cảm ứng ba tứ cực ICP-TQMS 1000 Mô tả: ICP-TQMS 1000 là hệ thống quang phổ khối plasma cảm ứng cao tần với cấu hình ba tứ cực (Triple-Quadrupole ICP-MS). Thiết bị sử dụng plasma ICP để ion hóa mẫu ở nhiệt độ rất cao, sau đó hai tứ cực ...
Thiết bị phân tích Carbon và Lưu Huỳnh hồng ngoại tần số cao CS5500 Mô tả: Công ty TNHH Đạt Hiển xin giới thiệu sản phẩm. Thiết bị phân tích Carbon và Lưu Huỳnh hồng ngoại tần số cao CS5500 là hệ thống phân tích nguyên tố chuyên dụng dùng để xác định nhanh và chính ...
Hãy là người đầu tiên nhận xét “THIẾT BỊ PHÂN TÍCH KHÍ OXY,NITƠ VÀ HYDRO TRONG KIM LOẠI ONH-3500/5000”
Đặt mua THIẾT BỊ PHÂN TÍCH KHÍ OXY,NITƠ VÀ HYDRO TRONG KIM LOẠI ONH-3500/5000
THIẾT BỊ PHÂN TÍCH KHÍ OXY,NITƠ VÀ HYDRO TRONG KIM LOẠI ONH-3500/5000
Đánh giá
Chưa có đánh giá nào.