Máy Phún Xạ & Phủ Carbon Buồng Lớn DSCR-300 VACCOAT

Máy Phún Xạ & Phủ Carbon Buồng Lớn DSCR-300

MÔ TẢ:

Máy phủ DSCR-300 là hệ thống phủ để bàn, được trang bị bơm chân không quay và buồng phủ lớn, hỗ trợ sputter coating và carbon coating trong cùng một thiết bị nhỏ gọn. Máy sử dụng cathode magnetron làm mát bằng nước kích thước 3 hoặc 4 inch, cho phép thời gian sputter kéo dài, phù hợp để tạo các lớp phủ mỏng và dày với độ đồng đều cao.
DSCR-300 đặc biệt thích hợp cho việc phủ các mẫu lớn bằng kim loại quý không oxy hóa như vàng (Au), palladium (Pd), bạch kim (Pt), hợp kim vàng/palladium (Au/Pd) trên các mẫu không dẫn điện hoặc dẫn điện kém. Ngoài ra, thiết bị còn có thể phủ carbon dạng màng mỏng trên mẫu nano để phục vụ các phân tích bằng FE-SEM, TEM, và EDX.

Máy phủ bàn phún xạ và carbon DSCR-300

ĐẶC ĐIỂM – TÍNH NĂNG:

• Bơm chân không quay trực tiếp hai cấp, lưu lượng 6 m³/h

• Nguồn DC 80 W cho sputter coating

• Nguồn DC xung 0–25 A cho bay hơi sợi carbon

• Nguồn DC 0–100 A cho bay hơi que carbon (tùy chọn)

• Bộ đo độ dày màng tinh thể thạch anh (độ chính xác 1 nm, độ phân giải 0.1 nm)

• Cathode magnetron 2, 3 hoặc 4 inch (tùy chọn)

• Van xả điện tử, cửa chớp điện tử

• Giá đỡ mẫu có thể xoay, chỉnh độ cao và độ nghiêng (tùy chọn quay hành tinh)

• Bảo hành 2 năm, đạt chuẩn CE

• Sản phẩm được bảo hiểm trách nhiệm toàn cầu (thiệt hại tài sản/nhân sự)

• Màn hình cảm ứng trực quan, nhập liệu nhanh chóng

• Phần mềm thân thiện, có thể cập nhật qua mạng

• Kiểm soát chính xác tốc độ phủ để đạt hạt mịn

• Chế độ phủ thủ công hoặc tự động theo thời gian hoặc độ dày

• Quy trình bán/tự động cho sputter và carbon coating

• Hỗ trợ nhiều chế độ: xung / flash cho sợi carbon, xung / ramp cho que carbon

• Lưu trữ công thức phủ để tái sử dụng, ghi lại và hiển thị biểu đồ thông số phủ

ỨNG DỤNG:

• Phủ kim loại quý hạt mịn cho chuẩn bị mẫu SEM, FE-SEM, TEM, EDX

• Tạo lớp phủ dẫn điện cho mẫu không dẫn

• GLAD sputtering (phủ định hướng góc)

• Xử lý lưới TEM bằng plasma để tăng độ ưa nước