Máy Phủ Kim Loại Và Carbon Để Bàn – DSCR

Máy Phủ Kim Loại & Carbon Để Bàn DSCR

MÔ TẢ:

DSCR là hệ thống phủ nhỏ gọn, cho phép thực hiện cả sputter (phủ mỏng kim loại) và phủ carbon. Máy có khả năng sputter các kim loại quý như vàng (Au), palladium (Pd), platinum (Pt) và hợp kim Au/Pd, đồng thời thực hiện bay hơi nhiệt các nguồn carbon khác nhau (sợi hoặc que) để phủ lên các mẫu có bề mặt không dẫn điện hoặc dẫn điện kém, phục vụ cho việc chụp ảnh bằng kính hiển vi điện tử hoặc các ứng dụng khác.

DSCR là máy phủ sử dụng bơm quay, được cấu hình cho sputtering DC và phủ sợi carbon (Thread) hoặc que carbon, với các đầu thay thế linh hoạt trong cùng một thiết bị.

Vì sputtering và bay hơi carbon là các phương pháp chuẩn trong việc chuẩn bị mẫu, giúp tăng dẫn điện bề mặt của mẫu SEM và ngăn tích điện trong quá trình chụp ảnh, nên DSCR là một máy đa năng cho việc chuẩn bị mẫu SEM.

Quy trình phủ sputter và carbon hoàn toàn tự động giúp vận hành dễ dàng, chính xác và lặp lại hiệu quả. Máy có thể trang bị catode sputter làm mát bằng nước, thích hợp cho các quá trình phủ lâu dài. Kích thước tối đa của mẫu trong model này là 4 inch.

Thiết bị phun phủ kim loại & carbon để bàn DSCR

ĐẶC ĐIỂM & TÍNH NĂNG:

– Bơm quay hai cấp, truyền động trực tiếp, công suất 6 m³/h

– Nguồn DC 80 W cho sputtering

– Nguồn DC 0–25 A cho bay hơi sợi carbon

– Nguồn DC 0–100 A cho bay hơi que carbon (tùy chọn)

– Cảm biến dày lớp bằng tinh thể thạch anh với độ chính xác 1 nm, độ phân giải 1 Å

– Một catốt magnetron 2 inch

– Van xả điện tử

– Chỉnh được xoay, nâng hạ và nghiêng mẫu

– Khay mẫu hành tinh (Planetary) – tùy chọn

– Cửa chớp điện tử

– Khay mẫu dễ thay đổi (kèm theo khay xoay tiêu chuẩn)

– Bảo hành 2 năm

– Đạt tiêu chuẩn CE

– Bảo hiểm toàn cầu: Các sản phẩm Vac Coat được bảo hiểm trách nhiệm dân sự và sản phẩm, đảm bảo an toàn tài sản và con người nếu xảy ra sự cố do hệ thống Vac Coat.

– Màn hình cảm ứng trực quan để điều khiển quá trình phủ và nhập dữ liệu nhanh

– Phần mềm thân thiện với người dùng, có thể cập nhật qua mạng

– Điều khiển chính xác tốc độ phủ để tạo cấu trúc hạt mịn hơn

– Quy trình sputtering bán tự động hoặc tự động

– Quy trình phủ sợi/que carbon bán tự động hoặc tự động

– Quy trình sputtering và phủ carbon lập trình được, lặp lại chính xác ở chế độ tự động

– Phủ sputtering theo thời gian hoặc độ dày: thủ công hoặc tự động

– Ghi lại và vẽ biểu đồ các thông số phủ

– Lưu công thức phủ (coating recipe) để tái tạo chính xác các lần phủ sau

ỨNG DỤNG:

– Phủ kim loại quý với cấu trúc hạt mịn: Tạo lớp phủ mỏng từ các kim loại quý (vàng, palladium, platinum…) với hạt mịn đồng đều trên bề mặt mẫu, giúp chuẩn bị mẫu cho SEM, FE-SEM, EDX và TEM, đảm bảo hình ảnh sắc nét và chính xác.

– Tạo lớp dẫn điện cho mẫu không dẫn điện: Phủ một lớp mỏng carbon hoặc kim loại lên bề mặt các vật liệu không dẫn điện hoặc dẫn điện kém, giúp tránh tích điện khi quan sát bằng kính hiển vi điện tử.

– Phủ sputter GLAD (Glancing Angle Deposition): Phủ vật liệu dưới góc nghiêng lớn để tạo cấu trúc bề mặt đặc biệt (mảnh, xốp hoặc nanostructure), phù hợp cho các nghiên cứu vật liệu nâng cao hoặc chuẩn bị mẫu với yêu cầu bề mặt đặc biệt.