Hệ quang khắc chùm điện tử; Máy khắc chùm tia điện tử; Thiết bị EBL; Máy e-beam lithography; Máy quang khắc e-beam; Hệ thống EBL phòng thí nghiệm

Máy quang khắc chùm điện tử ZEL304G là hệ thiết bị electron beam lithography dùng chùm điện tử hội tụ thay cho ánh sáng để ghi trực tiếp mẫu vẽ lên lớp cảm quang, đạt độ rộng đường dưới 10 nm chỉ trong một lần phơi. Liên Hệ Đạt Hiển: 0938.470.988